PVD真空镀膜设备-磁控溅射镀膜设备
更新:2025-01-24 09:00 编号:31895011 发布IP:183.162.233.33 浏览:4次- 发布企业
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- 磁控溅射镀膜设备,PVD真空镀膜设备
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- 合肥市高新区大别山路1599号
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详细介绍
PVD真空镀膜设备-磁控溅射镀膜设备
设备优势:
· IS系列融合了离子束清洗技术(Ionbeam)+磁控溅射技术(Sputtering );
· 专注于多元金属复合涂层的制备,极好的满足了各类材料的金属化需求;
· 可镀材料极其广泛,可适配各类导电金属靶材、绝缘陶瓷靶材;
· 可根据产品及涂层需求,选用用平面靶及圆柱靶。
设备基本性能参数 | |||
参数 | IS28 | IS26 | IS24 |
镀膜源类型 | 阳极层离子源、磁控溅射源 | ||
极限真空/漏率 | 5×10-4Pa / <10-11Pa•m3/s | ||
抽气速率 | < 30分钟(真空度3x10-3 Pa,空载) | ||
真空室尺寸 | Φ1300*1400 | Φ1150*1400 | Φ1000*1000 |
均匀性 | ±5% | ||
可选配套电源 | 直流、脉冲直流、中频、射频、高功率脉冲等 | ||
工艺气体 | Ar ,C2H2,N2、O2等 | ||
靶材匹配 | Cr、Ti、Ni、Cu、Ta、Zr、W等金属单质或合金靶、平面石墨靶 | ||
真空系统 | 机械泵+罗茨泵+分子泵 | ||
控制方式 | PLC+上位机 | ||
设备功率 | 50KW | 40KW | 30KW |
配套要求 | 循环水压力:0.3-0.4MPa,压缩空气:0.4-0.75MPa |
成立日期 | 2014年10月23日 | ||
法定代表人 | 张心凤 | ||
注册资本 | 800 | ||
主营产品 | 真空镀膜、镀膜PVD工艺、功能性膜层、镀膜设备销售、涂层加工服务、镀膜服务、纳米微米膜层、镀膜设备制造、镀膜加工服务、定制镀膜设备、纯离子镀膜、多弧磁过滤、磁控溅射、物理气相沉积、离子刻蚀机。 | ||
经营范围 | 纳米薄膜、机电一体化、机电设备、材料科学设备及技术研发、设计、安装、维修、服务及销售。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动) | ||
公司简介 | 安徽纯源镀膜科技有限公司是由新加坡归国创业团队于2014年创立的高科技公司,坐落于合肥市蜀山区大别山路1599号。主要从事真空纳米、微米级高端镀膜装备的设计、研发和制造;并提供多种功能膜层的工艺开发和镀膜加工服务。公司目前拥有设计、研发、工艺、市场和生产等各方面的人才。在阴极弧(CathodeArc)、磁控溅射(Sputter)、电子束蒸发(E-beamEvaporation)、离子束刻蚀清洗(I ... |
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