PVD真空镀膜设备-多元化高致密金属镀膜设备
设备优势：
· PEPIC系列设备采用高效的电磁过滤系统，能有效过滤大颗粒及杂质，可制备兼具“功能性”与“装饰性”的优质膜层；
· 采用全新的弧源设计，应用了电弧技术，可大幅度提高弧源连续工作的可靠性，缩短设备维护时间；
· 可用于制备各类金属、合金、金属氮化物涂层，制备的涂层具有硬度高、致密性能好、表面光洁度和耐腐蚀性能优越的特点；
· 自主设计的智能化工艺操作系统，提供全面、便捷的工艺配方编辑及调用能力，配备实时工艺参数监控系统，可实现远程在线控制。
设备基本性能参数 | |||
参数 | PE213 | PE422 | PE624 |
镀膜源类型 | 阳极层线性离子源、磁控溅射源、纯离子镀膜源 | ||
极限真空/漏率 | 5×10-4Pa / <10-11Pa•m3/s | ||
抽气速率 | < 30分钟(真空度3x10-3 Pa，空载) | ||
真空室尺寸 | Φ800*H675 | Φ1000*H1000 | Φ1400*H1100 |
均匀性 | ±5% | ||
可选配套电源 | 直流、脉冲直流、中频、射频、高功率脉冲等 | ||
工艺气体 | Ar ，C2H2，N2、O2等 | ||
靶材匹配 | 石墨靶、Cr、Ti、Ni、Cu、Ta、Zr、W等金属单质或合金靶 | ||
真空系统 | 机械泵+罗茨泵+分子泵 | ||
控制方式 | PLC+上位机 | ||
设备功率 | 30KW | 40KW | 60KW |
配套要求 | 循环水压力：0.3-0.4MPa，压缩空气：0.5-0.75MPa | ||