PVD真空镀膜设备-高精模具镀膜设备
设备优势：
· PI系列融合了纯离子镀膜技术(PIC)、离子束清洗技术(IONBEAM);
· 本系列标配双腔室结构，更好的满足高真空镀膜需求;
· 配套有更高效的电磁过滤系统，极好的获得纳米级超洁净涂层 ；
· 专注于超洁净纳米TAC涂层制备，广泛应用于玻璃模压成型模具表面改性；
· 可镀10nm-1μm的超级类金刚石Ta-C膜层。
设备基本性能参数 | |||
装卸载腔 工艺腔 | 420*500*525(mm) 720*580*550(mm) | 镀膜范围 | Φ250mm |
工艺真空 | <5x10-4Pa | 抽气时间 | 大气到6x10-3<15分钟 |
应用技术 | PIC+IBE | 源类型 | 纯离子源、阳极层离子源、ICP源 |
涂层类型 | Ta-C、DLC、金属氮化物、碳化物 | 生产周期 | 1-3小时/炉（根据产品） |
工艺气体 | Ar、N2、O2、C2H2等 | 外围尺寸 | L3410*W4328*H2310（mm） |
控制方式 | 上位机＋PLC，全自动控制 | 配套条件 | 循环水压力：0.2-0.5MPa |
冷却纯水量：不低于8m3/h | |||
压缩空气：0.5-0.75MPa | |||