PVD真空镀膜设备-等离子体增强纯离子镀膜设备

更新：2025-01-23 09:00 编号：31894441 发布IP：183.162.233.33 浏览：10次

发布企业: 安徽纯源镀膜科技有限公司商铺
认证: 资质核验：
已通过营业执照认证

入驻顺企：
第
3
年

主体名称：
安徽纯源镀膜科技有限公司

组织机构代码：
91340100394452746Q
报价: 请来电询价
镀膜技术: 磁控、多弧、蒸发
镀膜价格: 价格优异
镀膜性能: 按需定制
关键词: 等离子体增强纯离子镀膜设,PVD真空镀膜设备
所在地: 合肥市高新区大别山路1599号
联系电话: 0551-63652293
手机: 18356509334
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PVD真空镀膜设备-等离子体增强纯离子镀膜设备

设备优势：

· 集纯离子镀膜技术（Pure ion Cathode）+离子束清洗（Ionbeam）+磁控溅射（Sputter）+磁约束气相沉积（Magneticconfinement-CVD）于一体，是PVD技术与CVD技术的一次完美融合；

· 可实现TAC-DLC的组合，获得TAC更高基础硬度与结合力的兼有DLC的沉积速率及细腻外观；

· 比单纯CVD的结合力大幅度提升，降低了PVD的颗粒度，缩短工艺时间；

· 可实现多种工艺C膜沉积，纯离子镀TAC，磁约束放电DLC，阳极层离子源镀DLC等。

设备基本性能参数
镀膜源类型	纯离子镀膜源/高能离子束清洗源/磁控溅射源/磁约束气相沉积源		抽气时间	<30分钟(真空度3x10-3 )
镀膜速率	Cr ~2um/h	C ~1.5um/h	实际功率	70KW
工作电压/频率	380V/50Hz		漏率	<10-11Pa•m3/s
极限压力	5.0*10-4Pa		真空室结构	立式
基片转盘	自转		真空系统	分子泵、旋片泵、罗茨泵
电源类型	离子束清洗电源、脉冲偏压电源、直流弧电源、过滤电源		外围尺寸	534038583558mm
生产周期	沉积速率较高，根据膜层厚度，所需时间长短不一样		配套条件	循环水压力：0.2-0.3Mpa 冷却纯水水量：不低于12m3/h 压缩空气：0.5-0.75 MPa
控制方式	上位机+PLC		产量/炉	依客户工件尺寸定量
控制方式	自主开发的镀膜专用软件		工艺气体	Ar，C2H2，N2、O2等

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成立日期	2014年10月23日
法定代表人	张心凤
注册资本	800
主营产品	真空镀膜、镀膜PVD工艺、功能性膜层、镀膜设备销售、涂层加工服务、镀膜服务、纳米微米膜层、镀膜设备制造、镀膜加工服务、定制镀膜设备、纯离子镀膜、多弧磁过滤、磁控溅射、物理气相沉积、离子刻蚀机。
经营范围	纳米薄膜、机电一体化、机电设备、材料科学设备及技术研发、设计、安装、维修、服务及销售。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）
公司简介	安徽纯源镀膜科技有限公司是由新加坡归国创业团队于2014年创立的高科技公司，坐落于合肥市蜀山区大别山路1599号。主要从事真空纳米、微米级高端镀膜装备的设计、研发和制造；并提供多种功能膜层的工艺开发和镀膜加工服务。公司目前拥有设计、研发、工艺、市场和生产等各方面的人才。在阴极弧（CathodeArc）、磁控溅射(Sputter)、电子束蒸发(E-beamEvaporation)、离子束刻蚀清洗(I ...

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