纯源类金刚石涂层设备

  PIS622超级类金刚石镀膜(Ta-C)设备:主要提供超硬、耐磨损、摩擦系数小、耐腐蚀、防刮花的优质类金刚石Ta-C膜层。设备采用国内独有的纯离子镀膜源专利技术，具有电磁过滤系统和高频电磁扫描系统两大创新，全自动模块化设计。电磁过滤系统可以过滤掉中性粒子、原子团等杂质，提高了离化率，使膜层更加致密，硬度更高，耐磨性显著提高。

根据市场需求公司研制出：辅助阳极、磁过滤、矩形平面靶、圆柱旋转电弧靶等衍生产品。沉积的膜层精度达到了纳米量级，是制备高硬度、高结合力、高耐磨性Ta-C、DLC等高质量膜层的shouxuan。

本设备为交钥匙设备，纯源公司提供整套解决方案，包括稳定成熟镀膜配方，设备交接后即可投产。

主要特点：

　　1、传动装置的冷却方式为水冷式：设计新颖、结构紧凑、系列间通用、互换性强；水冷式机座，散热效果佳；腔体外部滚动轴承及传动齿轮可加润滑油运行，使用寿命增长3-5倍。

　　2、旋转装置为行星旋转机构，可根据镀膜工艺不同设计为：变频调速，公转式、公自转结合式。

　　3、采用气动门铰，自动锁门 ，减少操作程序，增强真空门整体的密闭性及减少对橡胶密封圈的破坏性。

　　4、真空容器设计为新型结构，用户可据自己的需求，可升级为多功能镀膜设备。

　　5、多弧离子部份采用先进镀膜工艺技术,即可镀制装饰膜,也能镀制功能膜,数道工艺，一次完成，极为先进科学。

    6、智能控制：PLC智能控制+HMI全彩人机触控界面，实现逻辑全自动控制。

    7、报警及保护：异常情况进行报警，并执行相应保护措施。

技术优势：

膜层致密，粘附性好；膜层均匀性可调；

高稳定性；高功率；均匀性好；优化磁场设计；维护方便；有效水冷设计，靶材可以连续24小时工作。

1）腔体接口通用尺寸，互换性强，优化升级方便；

2）专利磁场设计+专利布气方式，极大地提高了有效镀膜空间和膜层均匀性；

3）实时记录历史数据和分析数据曲线，对品质管理管控和工艺开发有明显帮助。强大的软件功能，友好的人机界面，实时记录工艺数据，利于质量管控、疑难分析、开发新工艺等；

4）模块化工艺配方，灵活设定子配方和总配方，子配方添加/删减方便，一键式操作即可完成多层工艺配方。