安徽纯源——IS系列磁控溅射镀膜设备
磁控溅射镀膜设备主要是采用本公司成熟的技术:高能离子束清洗+磁控溅射源。设备采用全自动化控制,模块化集成优化,设备功率高、稳定性能好、操作简单且维护方便。为满足不同的镀膜需求腔室内可设计配置平面圆形靶、条形靶和圆柱靶等多种靶材,可获得致密度高、均匀性能好的多层复合膜,包括各种金属、半导体、铁磁材料以及绝缘的氧化物、陶瓷薄膜等。适合研发及批量镀膜服务。
设备优势:
ØIS系列融合了离子束清洗技术(Ionbeam)+磁控溅射技术(Sputtering);
Ø专注于多元金属复合涂层的制备,极好的满足了各类材料的金属化需求;
Ø可镀材料极其广泛,可适配各类导电金属靶材、绝缘陶瓷靶材;
Ø可根据产品及涂层需求,选用用平面靶及圆柱靶。
主要应用:
>金属、非金属及陶瓷氧化物的各类膜层和复合膜层;
>太阳能电池、液晶显示;
>磁光信息存储、铁磁材料;
>硬质耐磨、材料保护和防腐等各个领域。
设备基本性能参数 | |||
参数 | IS28 | IS26 | IS24 |
镀膜源类型 | 阳极层离子源、磁控溅射源 | ||
极限真空/漏率 | 5×10-4Pa / <10-11Pa•m3/s | ||
抽气速率 | < 30分钟(真空度3x10-3 Pa,空载) |