PVD镀膜—高真空精密光学薄膜镀膜设备

高真空精密光学薄膜镀膜设备

      CYEB-1300R型设备：高真空精密光学薄膜镀膜设备，专为光学薄膜器件镀膜设计，配置低温捕集器辅助真空，配置优良电子枪，采用IAD射频离子辅助蒸发成膜方式。在保证精密光学特性的膜层残余应力低、均匀性好、致密度高;高自动化程度的膜厚控制系统，全自动化控制模块，稳定性能好操作简单且维护方便，各系统单元和结构很好地满足光学薄膜生产工艺要求。

一、工艺种类

二、设备特点

1、多功能涂层组合

2、膜层精度控制土1%

3、设备稳定重复性±1%

4、实现多种工艺技术

5、降本增效、维护便捷

6、全自动化工艺控制软件

三、应用领域

1、消费电子领域:智能手机、数码相机、录像机、投影仪、望远镜、传真机、复印机、眼镜等;

2、车载显示:消费品车载显示屏、车载相机、控制面板等;

3、LED显示:产业应用LED、液晶显示器、有机EL、DVD、CDRW、CDR、CD等光学拾波器太阳能电池、装饰部件、电子部件等;

4、电子元器件领域:电子元器件产业设备镜头、光学部件、激光器、光开关部件等

四、镀制方案

采用不同的镀膜方案:

样品开发流程:

1.客户给定的Spec，确认基板材质及基板参数；

2.确认膜层使用环境，其光学性能及xinlai性测试；

3.据使用环境，光学性能及信耐性确认使用膜层的材料；

4.样品夹具确认，通过夹具确认单层均匀性；

5.通过单层光谱，确认单层N&K系数；

6.选择工艺膜堆的匹配设计；

7.使用镀膜控制监控方式方案，光控，晶控，时间等；

8.多层镀制，样品测量，光谱形状调试；

9.光谱调整需满足Spec要求，且有余量满足量产；

10.样品提交发货。

例如IR-Cut，可使用电子束蒸发镀制，遵循上述流程，满足需求根据用户所需求膜层的镀膜用处要求不同，采用不同的镀膜方案。

注明：以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司-材料实验室-检测结果