PVD纯离子真空镀膜设备-PIS系列/多膜层镀制
PVD纯离子真空镀膜设备性能特点：
>核心技术、低温镀膜、高效过滤；
>均匀性控制 +5% 以内、工艺成熟；
>膜层性能优：硬度高、摩擦系数低；
>多种膜层系列、可大批量高效率生产等。
PVD纯离子真空镀膜设备技术参数：
| 型号 | PIS213 | PIS422 | PIS622 |
| 真空室尺寸 | Ф800*H675(mm) | Ф1000*H1000(mm) | Ф1400*H1100(mm) |
| 纯离子镀膜源 | 2个 | 4个 | 6个 |
| 等离子清洗源 | 1个 | 2个 | 2个 |
| 磁控溅射源 | 3个 | 2个 | 4个 |
| 极限真空 | <5.0*10-4Pa | <5.0*10-4Pa | <5.0*10-4Pa |
| 温度 | <200℃ | <200℃ | <200℃ |
| 涂层区域 | Ф575*H250(mm) | Ф800*H500(mm) | Ф1180*H600(mm) |
| 控制系统 | 全自动工艺控制软件参数实时监测系统 | 全自动工艺控制软件参数实时监测系统 | 全自动工艺控制软件参数实时监测系统 |
| 真空室结构 | 立式 | 立式 | 立式 |
| 设备尺寸 | 4080*2960*2720(mm) | 4200*2800*2600(mm) | 4800*3150*2900(mm) |
| 功率 | 30KW | 40KW | 60KW |
| 备注 | 设备可根据客户需求进行定制 |
PVD纯离子真空镀膜设备应用领域：
>航空航天、高校及科研院所;
>飞机/汽车发动机关键零部件；
>新能源双极板、纺织零部件；
>刀具模具、医疗器械、消费电子行业等。
注明：以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司-先进材料实验室-检测结果