PI系列镀膜机
采用独有的纯离子镀膜源专利技术，可以提供优质的类金刚石Ta-C膜层,设备PIS210-2腔体结构由装载腔室+真空镀膜工艺腔室组合而成，镀膜工艺系统由纯离子镀膜(PIC)+离子束清洗(IONBEAM)融合而成。本设备为全自动设备，模块化控制，操作简单，维护方便，一键式操作即可完成多层膜镀膜沉积，适合光学镜头模具，及精密高端产品的镀膜。
主要特点和技术优势：
Ø PI系列（PIS210-2）配有高效的电磁扫描系统和过滤系统，离子束能量和方向可调，经过磁过滤后沉积粒子的离化率接近，并且可以过滤掉大颗粒，制备的纳米薄膜非常致密和光滑，抗腐蚀性能好，与工件的结合力很强，在均匀性、致密性、结合度、硬度、摩擦系数具有独特优势；
Ø 膜层中的碳四面体结构（（金刚石键SP3键）可以达到75%以上的，其物理化学性质和金刚石极其类似，薄膜具有极高的硬度（>75GPa）,极低的摩擦系数（<0.1），耐腐蚀性、光学透明度等一系列优异特征。可将镀膜件（基体）寿命比通常的DLC镀膜延长7-10倍以上。
Ø 采用纯离子低温镀膜工艺，镀膜过程控制在80〫C以下，可避免热应力和基材变形。
Ø 腔体结构由一个装载腔室和一个真空镀膜工艺腔室组合而成。两腔室可同步抽真空，极大缩短了镀膜前处理时间，提高工作效率。
Ø 采用自主设计电杆传动系统，采用变频调速电机驱动，运行速度可调节，运行可靠；
Ø 装载腔室和镀膜工艺腔室之间我们设计采用插板阀隔开，可以有效隔断，稳定工艺气体。
应用领域和范围：
Ø 精密光学行业（光学企业、照相摄像机企业等）；高精机械加工行业（刀具、模具、精密机械零部件等）；科研单位（研究所大学实验室）等；
Ø 可以对温度敏感的基材镀膜，如橡胶、塑料等高分子聚合物产品；
Ø 本项目为交钥匙设备，纯源公司提供提供整套解决方案，包括稳定成熟镀膜配方，设备交接后即可投产；
Ø 真空室尺寸，设备外观等可按客户产品或及特殊工艺要求订做，外围尺寸根据客户安装场地条件可做调整。