PVD真空镀膜 涂层汇总

        镀膜是指在基材表面沉积一层或多层具有特定功能的材料，以改进其物理、化学或机械性能。根据不同的沉积方法，镀膜工艺可以分为物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）、电镀、溶液沉积和喷涂等。

·镀膜工艺的基本原理

      镀膜工艺的核心原理是通过各种物理或化学手段，将气相、液相或固相材料转移到基材表面，形成均匀、致密且附着力强的薄膜层。这一过程可以通过控制温度、压力、反应气体和电场等参数实现精  准的薄膜特性调控。

·镀膜材料的选择和特性

      选择合适的镀膜材料取决于预期的应用和所需的薄膜特性。常用的镀膜材料包括金属（如铝、金、铬）、非金属（如碳化硅、氮化硅）以及有机聚合物等。这些材料各具独特的物理、化学和机械性能，能够满足不同应用的需求。

      纯源镀膜科技拥有多项核心技术，自主研发出纯离子镀膜设备、离子清洗刻蚀机以及磁控溅射设备等多项专利产品，开发出Ta-C、DLC碳基薄膜，低温氮化物和碳化物膜（TiN,TiSiN,ClAlSiN,CrN，TiC,CrC，CrWC等），以及高致密的金属/合金薄膜等，应用领域从交通工具到光学产品，从大众消费电子到国防及科研院所，从电子元器件到新能源新材料行业。安徽纯源镀膜科技公司深刻洞悉市场，研发出了行业内高端镀膜技术和涂层种类，针对不同的镀膜材料、不同的目标功用，为各个行业的多家企业提供个性化涂层定制服务，主要有以下三种：

一、Ta-C和DLC碳基薄膜

         当碳元素通过SP³键结合，就会形成金刚石；通过SP²键结合，就会形成石墨。类金刚石薄膜性能介于金刚石和石墨之间，根据SP3键的含量不同可以分为Ta-C(四面体非晶碳)和DLC（类金刚石）薄膜。Ta-C涂层是无氢且SP3键的含量高的膜层，与通常的DLC膜层相比，Ta-C膜层具有更高的硬度和致密性，耐高温、耐腐蚀性能。Ta-C膜层硬度可达55GPa,而DLC的硬度在20GPa以下，Ta-C的Zui高工作温度可达650℃，而DLC通常只能在300℃温度以下工作。Ta-C是纯源镀膜公司利用其纯离子镀膜核心技术制备的高端碳基薄膜，膜层的SP3键含量高达75%以上，其物理化学性质与金刚石极其类似，可广泛用于汽油车和柴油车发动机关键零部件、高端模具、高端切削刀具、电子元器件、医疗器械及国防；通过参数调节，纯源镀膜设备也可制备出SP3键的含量较低的DLC膜层，用于对于膜层性能要求较低的各个领域。

· 膜层类型

· 膜层性能

· 膜层应用

二、氮化物膜层

         通过不同气氛条件下的调控，结合纯离子镀膜和磁控溅射技术可以制备出氮化铬、氮化钛，氮碳钛等不同颜色和成分的化合物薄膜。氮离子的加入赋予了过渡金属氮化物强韧的键合特性，使其结构稳定性以及机械刚度大幅度提升。过渡金属氮化物（例如CrN、TiN等）具有远胜过传统涂层材料的耐酸碱性、热稳定性以及耐磨损性等特点。使得膜层适合于绝缘材料、切削刀具、电子元器件、消费电子材料等领域的低温镀膜，可满足材料的高硬度、耐磨损、耐腐蚀、防刮花以及提高导电、导热性能的需求。

· 膜层类型

· 膜层性能

· 膜层应用

 三、高致密金属膜

       采用独特纯离子镀膜和磁控溅射技术使得反应离子能量高，离子离化率程度高，与基材结合紧密，可制备Cr、Cu、Al、Ti、Fe、Ni、Pt、Ag、Au等金属及合金复合薄膜；通过专利技术及成熟工艺对等离子体能量、微观粒子大小、镀膜范围、成膜速率的控制，可制备出致密度高、膜层细腻、摩擦系数小、结合力强、热应力小的金属膜层，可用于消费电子、电子元器件行业以及绝缘材料表面金属化处理。

· 膜层类型

· 膜层性能

· 膜层应用

注明：以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司-先进材料实验室-检测结果