PVD真空镀膜设备销售-【光学模具镀膜设备】
· 设备简介:
采用独有的纯离子镀膜源核心技术,可以提供优质的类金刚石Ta-C膜层。设备PIS210-2腔体结构由装载腔室+真空镀膜工艺腔室组合而成,镀膜工艺系统由纯离子镀膜(PIC)+离子束清洗(IONBEAM)融合而成。本设备为全自动设备,模块化控制,操作简单,维护方便,一键式操作即可完成多层膜镀膜沉积,适合光学镜头模具,及精密高端产品的镀膜。
· 镀膜设备参数(可按客户需求定制):
注明:以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司-先进材料实验室-检测结果