PVD真空镀膜设备销售-【磁控溅射镀膜设备】
· 设备简介：
IS系列镀膜机采用本公司成熟的核心技术高能离子束清洗(onbeamCleaning)+磁控溅射源(MagnetronSputtering)，全自动化控制，设备功率高、稳定性能好操作简单且维护方便。为满足不同的镀膜需求，腔室内配置平面圆形靶、条形靶和圆柱靶等多种靶材，可获得致密度高、均匀性能好的多层复合膜，包括各种金属、半导体、铁磁材料,以及绝缘的氧化物、陶瓷薄膜等。
IS系列磁控溅射镀膜机拥有特有的技术以及特殊设计的磁场及工艺气路，有效提升靶材利用率以及长期工艺稳定性。设备的模块化通用接口，直接兼容不同形式阴极靶材，允许直流脉冲、中频、射频工作模式，兼容性强。纯源自主设计的全自动智能化工艺操作系统，提供全面、便捷的工艺配方编辑及调用能力，配备实时工艺参数监控系统，允许在线远程控制。
· 镀膜设备参数（可按客户需求定制）：
注明：以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司-先进材料实验室-检测结果