PVD真空镀膜设备销售-【纯离子镀膜设备】
· 设备简介:
PIS系列纯离子镀膜设备主要是集纯离子镀膜技术(PIC)、高能离子束清洗技术(IONBEAM)和磁控溅射技术(SPUTTER)三种技术融合于一体,其独有的纯离子镀膜源核心技术,利用高效的电磁过滤系统和电磁扫描系统有效过滤掉中性粒子、大颗粒离子团等杂质,大幅度提高等离子束流纯度,使膜层更加致密硬度更高,耐磨性和耐腐蚀性也更优异。可以镀制厚度范围从几百纳米到二十多微米的超级类金刚石a-C膜层。
·镀膜设备参数(可按客户需求定制):
注明:以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司-先进材料实验室-检测结果