等离子体增强纯离子镀膜设备-纯源定制

等离子体增强纯离子镀膜设备——PISC-6141-1

      PISC-6141-1等离子体增强纯离子镀膜设备是一款集纯离子镀膜技术(PureionCathode)、高能离子東清洗技术(lonbeam)磁控溅射技术(Sputter)、磁约束气相沉积技术(Magneticconfinement-CVD)四种技术于一体，是PVD技术与CVD技术的一次完美融合。该系列设备提供了更加灵活的工艺组合以满足各类繁杂的产品需求，其功能强大的混合工艺为工艺设计人员提供了更多的可能性。

      设备功能简介:

(1)纯离子镀膜源，采用高效电磁过滤系统，有效祛除颗粒，获得更高纯度的离子束流，帮助提升涂层基础硬度及结合力;

(2)高能离子束清洗源，采用特殊设计的放电结构，有效兼容了等离子清洗活化、辅助电离、独立沉积等功能;

(3)磁控溅射源，采用创新的磁场设计，有效提升靶材利用率30%以上;

(4)磁约束气相沉积源，可靠且易于维护的结构，可以实现快速而又细腻的涂层沉积典型涂层类型，如下所示：

• Me-TAC，金属TAC复合涂层，应用广泛

• Me-DLC，金属DLC复合涂层，应用广泛

• Me-TAC-DLC，TAC-DLC复合涂层，获得TAC更高基础硬度与结合力的兼有DLC的沉积速率及细腻外观。

注明：以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司-先进材料实验室-检测结果