PIC离子镀膜源
PIC(Pure IonCoating)特征是:在真空条件下点火碳头敲击至阳极内的阴极靶(碳靶)上,靶面被瞬间激发产生电场,在放电空间中,工艺气体的气体原子与电子发生碰撞使气体离化产生等离子体,并受到基片前负电位电场加速,轰击沉积在基片表面。纯离子镀膜形成的膜基结合力好、膜层的绕镀性好、膜层组织可控能数多、膜层粒子总体能量高,容易进行反应沉积,可以在较低温度下获得化合物膜层。
注明:以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司-先进材料实验室-检测结果
PIC离子镀膜源
PIC(Pure IonCoating)特征是:在真空条件下点火碳头敲击至阳极内的阴极靶(碳靶)上,靶面被瞬间激发产生电场,在放电空间中,工艺气体的气体原子与电子发生碰撞使气体离化产生等离子体,并受到基片前负电位电场加速,轰击沉积在基片表面。纯离子镀膜形成的膜基结合力好、膜层的绕镀性好、膜层组织可控能数多、膜层粒子总体能量高,容易进行反应沉积,可以在较低温度下获得化合物膜层。
注明:以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司-先进材料实验室-检测结果
成立日期 | 2014年10月23日 | ||
法定代表人 | 张心凤 | ||
注册资本 | 800 | ||
主营产品 | 真空镀膜、镀膜PVD工艺、功能性膜层、镀膜设备销售、涂层加工服务、镀膜服务、纳米微米膜层、镀膜设备制造、镀膜加工服务、定制镀膜设备、纯离子镀膜、多弧磁过滤、磁控溅射、物理气相沉积、离子刻蚀机。 | ||
经营范围 | 纳米薄膜、机电一体化、机电设备、材料科学设备及技术研发、设计、安装、维修、服务及销售。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动) | ||
公司简介 | 安徽纯源镀膜科技有限公司是由新加坡归国创业团队于2014年创立的高科技公司,坐落于合肥市蜀山区大别山路1599号。主要从事真空纳米、微米级高端镀膜装备的设计、研发和制造;并提供多种功能膜层的工艺开发和镀膜加工服务。公司目前拥有设计、研发、工艺、市场和生产等各方面的人才。在阴极弧(CathodeArc)、磁控溅射(Sputter)、电子束蒸发(E-beamEvaporation)、离子束刻蚀清洗(I ... |