涂层退膜-【反应离子刻蚀设备】-【退膜机】
· 设备原理:
>通入刻蚀室的工艺气体分子分解电离,产生等离子体。
>由等离子体中的部分活性基团与被刻蚀材料表面发生化学反应;
>通过脉冲/射频电源,使等离子体中的正离子对被刻蚀材料表面进行物理轰击,从而以物理、化学相结合的方法对材料表面,进行清洁、改性、刻蚀的目的。
· 应用领域:
>可褪碳基薄膜,可作为DLC/Ta-C薄膜的褪膜机使用,
>可刻蚀材料:金属,非金属,合金,半导体(单晶硅、非晶硅、多晶硅、SOI),金属氧化物,氮化物碳化物,陶瓷,聚合物,超导材料等;
>可应用在:3C消费电子,半导体,光学,交通工具,刀具模具,家电,新能源,医疗,航空航天,科研等行业。
· 刻蚀前后效果对比:
注明:以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司-先进材料实验室-检测结果