光学模压模具退膜—离子刻蚀机
RIE(Reactive IonEtching)离子刻蚀机：系列设备为真空等离子刻蚀机属于电子工业的干法清洗，工艺气体在电子区域形成等离子体，并产生电离气体和释放高能电子组成的气体，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面，等离子体在工件表面发生反应，从而实现清洁、改性、刻蚀的目的，将污染物转换为气相，并通过真空泵用连续气体流将其排出。
【产品亮点】
高精度加工，塑造完美光学表面：采用先进的离子刻蚀技术，通过准 确控制离子束的能量与角度，实现对光学模压模具表面微纳级别的精 准去除与修饰。无论是复杂的曲面结构还是高精度的图案设计，都能轻松应对，确保产品的光学性能优。
高效退膜，提升生产效率：传统退膜方法往往耗时长、效率低，且可能引入杂质影响成品质量。而我们的离子刻蚀机，通过非接触式加工方式，直接在模具表面进行高效、均匀的退膜处理，不仅大幅缩短了生产周期，还显著提升了产品的良品率。
绿色环保，安全无忧：在追求高效的我们同样注重环境保护与操作安全。离子刻蚀过程中无需使用有害化学物质，减少了环境污染的风险，设备设计充分考虑了人机工程学原理，确保操作人员的安全与健康。
智能化控制，操作简便：配备先进的智能控制系统，支持多种加工模式与参数设置，用户可根据实际需求轻松调整，实现自动化生产。实时监控系统可实时反馈加工状态，确保加工过程的稳定与可靠。
广泛应用，满足不同需求：无论是用于光学镜头、滤光片、微透镜阵列等高精度光学元件的生产，还是科研领域对特殊光学材料的探索，光学模压模具退膜离子刻蚀机都能提供强有力的支持，助力客户实现创新与发展。
【优势】
Ø 可定制刻蚀范围φ100-800mm,支持单源或多源组合；
Ø 刻蚀温度低于80℃，很好的兼容热敏感材料；
Ø 自由调节的刻蚀距离及速率，满足敏感材料应用需求。
Ø 等离子体密度高，刻蚀清洗效果好，具有良好的均匀性；
Ø 采用通用接口尺寸，模块化设计、互换性强，维护方便；
Ø 交钥匙设备，纯源公司提供整套解决方案，设备交接后即可投产；
【应用领域】
Ø 可刻蚀材料:金属，非金属，合金，半导体(单晶硅、非晶硅、多硅，SO1)，金属氧化物，氮化物，碳化物，陶瓷，聚合物，超导材料等:>可褪碳基薄膜，可作为DLC/Ta-C薄膜的褪膜机使用
Ø 可应用在:3C消费电子，半导体，光学，交通工具，刀具模具，家电，新能源，医疗，航空航天，科研等行业。
注明：以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司-先进材料实验室-检测结果