PVD镀膜技术【光学涂层】的应用
工艺类别 | 涂层类型 | 沉积温度范围 | 显微硬度(HV) | Zui高服役温度（℃） | 摩擦系数 | 厚度(μm) | 主要应用 |
工艺一 | Ta-C | <150℃ | 2500-2800 | 350℃ | ≈0.1 | 2-3 | 注塑模具 |
工艺二 | MICC | <150℃ | 2200-3000 | 800℃ | ≈0.2 | 2-3 | 半导体封装模具 |
膜层种类 | 主要应用 | 膜层性能 |
减反膜 | 车载镜头、触摸屏、手机相机等电子类产品 | 氧化物膜层：高硬度、耐磨、低反射率、固定波段内颜色 |
AR膜：主要是满足光学性能，及匹配周围油墨颜色 | ||
滤光片 | 手机模组、相机模组、成像及人脸识别系统等电子元器件 | 成膜稳定性好,结合力强，截止掉不需要波段，增加需求波段透过率， |
高反膜 | 手机、光谱仪、激光器等精密电子元件 | 高反射率 |
红外膜 | 手机或车载探测器，人脸识别系统等 | 在暗光或弱光情况下，对近红外人脸或事物进行探测，需要排除可见光内的干扰 |
其它定制膜层 | 光学模压产品超硬膜、手机盖板防指纹膜、装饰膜、金属非导电膜等 | 匹配客户应用场景 |
客户产品示例：
