PVD真空镀膜设备-纯离子真空镀膜设备
设备介绍：
PIS系列纯离子镀膜设备(如图)主要是集纯离子镀膜技术(PIC)、高能离子束清洗技术(IONBEAM)和磁控溅射技术(SPUTTER)三种技术融合于一体，其独有的纯离子镀膜源专利技术①，利用高效的电磁过滤系统和电磁扫描系统有效过滤掉中性粒子、大颗粒离子团等杂质，大幅度提高等离子東流纯度，使膜层更加致密，硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性也更优异。可以镀制:类金刚石涂层(Ta-C)、AICrN、TiN、AITiN、CrN等涂层系列其中Ta-C彩膜具有超强硬度(>50GPa)。
设备主要特点和技术优势：
· PIS系列设备采用高效的电磁过滤器，可以有效过滤颗粒及杂质，创新性的水冷设计，散热更加高效;
· 全新设计的弧源，应用了的技术突破，大幅度提高弧源长期工作可靠性，缩短维护时间至20分钟;
· 自主设计的全自动智能化工艺操作系统，提供全面、便捷的工艺配方编辑及调用能力，配备实时工艺参数监控系统,允许在线远程控制。
膜层类型：
应用领域和范围：
· 工模具、切削刀具等精密零部件;
· 汽车和柴油车发动机关键零部件;
· 航空航天、高校及科研院所、工业耗材制造、消费电子行业等。