Pi-TaC(TetrahedralAmorphous(arbon,四面体非晶碳)涂层，是纯源用纯离子核心镀膜技术制备的一种无氢DLC(类金刚石)涂层，其膜层的SP3键含量可以达到70%以上，具有极高的硬度、极低的摩擦系数、宽透光范围、良好的化学情性等优点，其物理化学性质和金刚石极其类似，广泛应用于各种领域。
膜层优势：
1.超硬 2.耐腐蚀 3.防刮花 4.自润滑 5.高致密 6.摩擦系数小 7.高导热 8.生物相容性 9.均匀性好 10.结合力优等
Ta-C涂层是一种无氢碳元素涂层，其sp³与sp²键的比值较高。与其他DLC涂层相比，ta-C膜层具有更高的硬度和抗温性能，带来显著的性能提升。
| 成立日期 | 2014年10月23日 | ||
| 法定代表人 | 张心凤 | ||
| 注册资本 | 800 | ||
| 主营产品 | 真空镀膜、镀膜PVD工艺、功能性膜层、镀膜设备销售、涂层加工服务、镀膜服务、纳米微米膜层、镀膜设备制造、镀膜加工服务、定制镀膜设备、纯离子镀膜、多弧磁过滤、磁控溅射、物理气相沉积、离子刻蚀机。 | ||
| 经营范围 | 纳米薄膜、机电一体化、机电设备、材料科学设备及技术研发、设计、安装、维修、服务及销售。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动） | ||
| 公司简介 | 安徽纯源镀膜科技有限公司是由新加坡归国创业团队于2014年创立的高科技公司，坐落于合肥市蜀山区大别山路1599号。主要从事真空纳米、微米级高端镀膜装备的设计、研发和制造；并提供多种功能膜层的工艺开发和镀膜加工服务。公司目前拥有设计、研发、工艺、市场和生产等各方面的人才。在阴极弧（CathodeArc）、磁控溅射(Sputter)、电子束蒸发(E-beamEvaporation)、离子束刻蚀清洗(I ... | ||