

该纯离子镀膜设备(如图)主要是集纯离子镀膜技术(PIC)、高能离子束清洗技术(IONBEAM)和磁控溅射技术(SPUTTER)三种技术融合于一体,其独有的纯离子镀膜源核心技术,利用高效的电磁过滤系统和电磁扫描系统,有效过滤掉中性粒子、大颗粒离子团等杂质,大幅度提高等离子体束流纯度,使膜层更加致密,硬度更高,耐磨性和耐腐蚀性也更优异。可以镀制厚度范围从100nm-28μm的超级类金刚石Ta-C膜层。
PIS624设备配置
设备型号 | PIS624 |
镀膜源类型 | 纯离子镀膜源、高能离子束清洗源、磁控溅射源 |
极限真空(清洁空载条件下)/漏率 | ≤5×10-4Pa/≤5×10-10Pa•m3/s |
抽气速率 | <30分钟(真空度5x10-3Pa,空载) |
有效镀膜范围(mm) | Φ1000*H800 |
可选配套电源 | 直流、脉冲直流、中频、射频、高功率脉冲等 |
工艺气体 | Ar,C2H2,N2,O2等 |
靶材匹配 | 石墨靶、Cr、Ti、Ni、Cu、Ta、Zr、W等金属单质或合金靶 |
真空系统 | 机械泵+罗茨泵+分子泵 |
控制方式 | PLC+上位机 |
设备功率 | 70KW |
设备占地(mm) | L5000×W4000×H3100 |
配套要求 | 循环水压力:0.2-0.4MPa,压缩空气:0.6-0.7MPa |
设备优势:
➢电磁过滤系统可过滤掉大颗粒离子团和原子团,膜层致密、粘附性好;
➢电磁扫描系统,可定点定时控制等离子体的束流方向,极大改善涂层均匀性,整炉膜层均匀性控制±5%以内;
➢可镀涂层厚度范围广:可镀100nm-28μm的超级类金刚石Ta-C膜层。
设备应用领域:
消费电子、交通工具、医疗器械、高校及科研院所、工业耗材制造等行业。

PIS624设备镀制膜层图集(部分)
| 成立日期 | 2014年10月23日 | ||
| 法定代表人 | 张心凤 | ||
| 注册资本 | 800 | ||
| 主营产品 | 真空镀膜、镀膜PVD工艺、功能性膜层、镀膜设备销售、涂层加工服务、镀膜服务、纳米微米膜层、镀膜设备制造、镀膜加工服务、定制镀膜设备、纯离子镀膜、多弧磁过滤、磁控溅射、物理气相沉积、离子刻蚀机。 | ||
| 经营范围 | 纳米薄膜、机电一体化、机电设备、材料科学设备及技术研发、设计、安装、维修、服务及销售。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动) | ||
| 公司简介 | 安徽纯源镀膜科技有限公司是由新加坡归国创业团队于2014年创立的高科技公司,坐落于合肥市高新区习友路3789号。主要从事真空纳米、微米级高端镀膜装备的设计、研发和制造;并提供多种功能膜层的工艺开发和镀膜加工服务。公司目前拥有设计、研发、工艺、市场和生产等各方面的人才。在阴极弧(CathodeArc)、磁控溅射(Sputter)、电子束蒸发(E-beamEvaporation)、离子束刻蚀清洗(IB ... | ||






