公司目前拥有多项核心技术，自主研发制造的纯离子镀膜设备(PureIonCoating，简称PIC)能够制造出性能优越的金属膜、合金膜、金属化合物膜和类金刚石薄膜；另一项自主研发的核心技术产品NDT(NewDiamondTechnology)能够制成性能优越稳定的类金刚石薄膜。
膜层系列有Ta-C、DLC、低温氮化物膜(TiN、CrN等)、碳化物膜(CrC等)和高致密金属/合金膜等。
纯源镀膜制备的纳米/微米级膜层具有如下特点：镀膜温度低、无热应力、高纯度、高致密、超硬、无颗粒、耐磨损、摩擦系数小、防刮花、耐腐蚀、均匀性好、粘附性好、导电性能可调、高热导、生物相容性、抑菌性和红外/激光透过率高（适当膜层材料）等。
以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司-材料实验室检测数据