高精镀膜设备系列采用独有的纯离子镀膜源专利技术，设备腔体结构由装载腔室+真空镀膜工艺腔室组合而成。镀膜工艺系统由纯离子镀膜[PIC)+离子束清洗(0NBEAM)融合而成。配有高效的电磁扫描系统和过滤系统，可以过滤掉大颗粒离子团和原子团，制备的纳米薄膜非常致密和光滑，与工件的结合力很强，在均匀性、硬度、摩擦系数、耐冲击、耐腐蚀性能方面具有独特优势。
系列设备可以制备出光学级Ta-C碳基薄膜，膜层中的正四面体结构(金刚石SP3键)可以达到75%以上，其物理化学性质和金刚石极其类似，具有极高的硬度(75GPa),极低的座擦系数(0.1),耐高温(在氮气保护环境下可以达到600C以上)等一系列优异特征。使用寿命比传统的DLC膜层延长几倍至几十倍不等,适合光学镜头模具,及精密高端产品的镀膜。