PEPIC系列设备-213
一、设备参数
真空室尺寸 | 800*675(mm) |
纯离子镀膜源 | 2个 |
等离子清洗源 | 1个 |
磁控溅射源 | 3个 |
极限真空 | <5.0*10-4Pa |
备注 | 设备可依据客户需求进行定制 |
二、膜层系列
TiN/TiAlSiN/TiN/CrN/PE-N/Metal
PEPIC系列设备-213
一、设备参数
真空室尺寸 | 800*675(mm) |
纯离子镀膜源 | 2个 |
等离子清洗源 | 1个 |
磁控溅射源 | 3个 |
极限真空 | <5.0*10-4Pa |
备注 | 设备可依据客户需求进行定制 |
二、膜层系列
TiN/TiAlSiN/TiN/CrN/PE-N/Metal
成立日期 | 2014年10月23日 | ||
法定代表人 | 张心凤 | ||
注册资本 | 800 | ||
主营产品 | 真空镀膜、镀膜PVD工艺、功能性膜层、镀膜设备销售、涂层加工服务、镀膜服务、纳米微米膜层、镀膜设备制造、镀膜加工服务、定制镀膜设备、纯离子镀膜、多弧磁过滤、磁控溅射、物理气相沉积、离子刻蚀机。 | ||
经营范围 | 纳米薄膜、机电一体化、机电设备、材料科学设备及技术研发、设计、安装、维修、服务及销售。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动) | ||
公司简介 | 安徽纯源镀膜科技有限公司是由新加坡归国创业团队于2014年创立的高科技公司,坐落于合肥市蜀山区大别山路1599号。主要从事真空纳米、微米级高端镀膜装备的设计、研发和制造;并提供多种功能膜层的工艺开发和镀膜加工服务。公司目前拥有设计、研发、工艺、市场和生产等各方面的人才。在阴极弧(CathodeArc)、磁控溅射(Sputter)、电子束蒸发(E-beamEvaporation)、离子束刻蚀清洗(I ... |