PVD真空镀膜设备销售-【定制非标真空镀膜设备】
· 设备简介:
纯源镀膜定制非标镀膜设备,主要是集纯离子镀膜技术(PIC)、高能离子束清洗技术(IONBEAM)和磁控溅射技术(SPUTTER)三种技术融合一体,除了可以镀制常规厚度(1-2μm)、厚膜(6μm),以及超厚(20-25μm)的各种厚度的Ta-C膜层,还可以镀制TiN、TiC、CrN、Cu、Ag、DLC等其他纯金属及金属复合膜层。
设备可适应各种镀膜靶材,无论金属还是介质、化合材料都可以利用溅射工艺进行镀膜及成膜,使膜层具有高致密度、超硬、耐磨损、耐腐蚀等特点。可镀制可编程序控制器(PLC)+触摸屏(HMI)组合电气控制系统,全自动控制。