PVD真空镀膜-纯离子镀膜设备 类金刚石膜层
设备可生产的膜层系列：类金刚石涂层镀膜设备（纯离子镀膜设备--多弧离子镀工艺技术）专业镀制：DLCTAC膜层加工服务
设备主要特点及技术优势：
· 纯离子镀膜可过滤掉大颗粒离子团和原子团，膜层致密、粘附性好；
· 设有电磁扫描装置和软件，可定点定时控制等离子体的束流方向，极大改善了镀膜均匀性问题，整炉膜层均匀性控制±5%以下；
· 优化的磁场设计及冷却设计，维护方便，靶材可以连续24小时工作；
· 采用通用接口尺寸，互换性强，优化升级方便;友好的人机界面，实时记录工艺数据，利于质量管控、疑难分析、开发新工艺等；
· 模块化工艺配方，灵活设定子配方和总配方，子配方添加/删减方便，一键式操作即可完成多层工艺配方；
· 本项目为交钥匙设备，纯源公司提供整套解决方案，包括稳定成熟镀膜配方，设备交接后即可投产；
· 真空室尺寸，设备外观等可按客户产品及特殊工艺要求订做，外围尺寸根据客户安装场地条件可做调整。
设备参数：
设备可生产应用的产品：