PVD真空镀膜-磁控溅射镀膜设备定制

PVD真空镀膜-磁控溅射镀膜设备定制

设备主要特点及技术优势：

·独特的空间设计和磁控溅射专利技术，可获得均匀性好、结合力强、摩擦系数低的各类型薄膜，包括各种金属、电子元器件、铁磁材料以及绝缘的氧化物、陶瓷等；

·优化的磁场设计，有效水冷设计，靶材可以连续24小时工作；

·模块化工艺配方，灵活设定子配方和总配方，子配方添加/减方便，一键式操作即可完成多层工艺配方；

·友好的人机界面，实时记录工艺数据，利于质量管控、疑难分析、开发新工艺等；

·本项目为交钥匙设备，纯源公司提供整套解决方案，包括稳定成熟镀膜配方，设备交接后即可投产，可用于研发和量产；

·真空室尺寸，磁控溅射和阳离子清洗源、设备外观等可按客户产品及特殊工艺要求订做，外围尺寸根据客户安装场地条件可做调整。

设备规格参数：

设备服务产品案例：