PVD与CVD镀膜技术相结合
设备功能简介:
(1)纯离子镀膜源,采用高效电磁过滤系统,有效祛除颗粒,获得更高纯度的离子束流,帮助提升涂层基础硬度及结合力;
(2)高能线性离子源,采用特殊设计的放电结构,有效兼容了等离子清洗活化、辅助电离、独立沉积等功能;
(3)磁控溅射源,采用创新的磁场设计,有效提升靶材利用率30%以上;
(4)磁约束气相沉积源,可靠且易于维护的结构,可以实现快速而又细腻的涂层沉积。
典型涂层类型:
· Me-TAC,金属TAC复合涂层,应用广泛
· Me-DLC,金属DLC复合涂层,应用广泛
·Me-TAC-DLC,TAC-DLC复合涂层,获得TAC更高基础硬度与结合力的兼有DLC的沉积速率及细腻外观。