PVD与CVD镀膜技术相结合
设备功能简介：
（1）纯离子镀膜源，采用高效电磁过滤系统，有效祛除颗粒，获得更高纯度的离子束流，帮助提升涂层基础硬度及结合力；
（2）高能线性离子源，采用特殊设计的放电结构，有效兼容了等离子清洗活化、辅助电离、独立沉积等功能；
（3）磁控溅射源，采用创新的磁场设计，有效提升靶材利用率30%以上；
（4）磁约束气相沉积源，可靠且易于维护的结构，可以实现快速而又细腻的涂层沉积。
典型涂层类型：
· Me-TAC，金属TAC复合涂层，应用广泛
· Me-DLC，金属DLC复合涂层，应用广泛
·Me-TAC-DLC，TAC-DLC复合涂层，获得TAC更高基础硬度与结合力的兼有DLC的沉积速率及细腻外观。
| 成立日期 | 2014年10月23日 | ||
| 法定代表人 | 张心凤 | ||
| 注册资本 | 800 | ||
| 主营产品 | 真空镀膜、镀膜PVD工艺、功能性膜层、镀膜设备销售、涂层加工服务、镀膜服务、纳米微米膜层、镀膜设备制造、镀膜加工服务、定制镀膜设备、纯离子镀膜、多弧磁过滤、磁控溅射、物理气相沉积、离子刻蚀机。 | ||
| 经营范围 | 纳米薄膜、机电一体化、机电设备、材料科学设备及技术研发、设计、安装、维修、服务及销售。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动） | ||
| 公司简介 | 安徽纯源镀膜科技有限公司是由新加坡归国创业团队于2014年创立的高科技公司，坐落于合肥市蜀山区大别山路1599号。主要从事真空纳米、微米级高端镀膜装备的设计、研发和制造；并提供多种功能膜层的工艺开发和镀膜加工服务。公司目前拥有设计、研发、工艺、市场和生产等各方面的人才。在阴极弧（CathodeArc）、磁控溅射(Sputter)、电子束蒸发(E-beamEvaporation)、离子束刻蚀清洗(I ... | ||
