纯源镀膜专注于PVD镀膜设备定制
公司目前拥有设计、研发、工艺、市场和生产等各方面的人才。在阴极弧(CathodeArc)、磁控溅射(Sputter)、电子東蒸发(E-beamEvaporation)、离子東刻蚀清洗(IBE)、化学气相沉积(CVD)等领域都掌握了国际先进技术;特别是公司自主设计、研发、制造的纯离子镀膜设备(PurelonCoating E)能够制备出性能优越的类金刚石膜,金属膜,金属化合物膜等。
PVD真空镀膜设备采用独特的核心技术--纯离子技术
该技术可以使膜层:
· 黏附力提高2-3倍;
· 硬度从15-20GPa提高到40-75GPa
· 摩擦系数从0.15降低到0.1;
·均匀性从10%提高到5%;·镀膜后寿命提高2-3倍等。
镀膜设备有:纯离子镀膜设备系列,多元化高致密金属镀膜设备系列、高精模具镀膜设备系列,磁控溅射设备系列、高真空精密光学薄膜镀膜设备系列、反应离子刻蚀系列等;