PIS624/PIS622纯离子镀膜设备主要是集纯离子镀膜技术(PIC)、高能离子束清洗技术(IONBEAM)和磁控溅射技术(SPUTTER)三种技术融合于一体，其独有的纯离子镀膜源专利技术!具有电磁过滤系统和高频电磁扫描系统两大创新点，电磁过滤系统可以过滤掉中性粒子、大颗粒离子团等杂质，提高了离化率，使膜层更加致密，硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性也更优异。
可以镀制厚度范围从几百纳米到二十多微米的超级类金刚石Ta-C膜层，根据各行业产品的要求，通常典型的碳膜层厚度系列有:1-2um(用于各行业的常规薄膜)，5-7um(用于汽车发动机核心零部件镀膜)，20-25um(用于大载荷、长寿命要求零部件)。还可以利用纯离子技术镀制各种纯金属及金属化合物膜层如:Cr、Cu、A1、Ag、Pt、TiN、TiC、CrN，WC等。
根据市场需求公司研制出多款产品，如增配辅助阳极、增加磁过滤系统、选配矩形平面靶或圆柱旋转靶等功能，结合溅射工艺进行镀膜及成膜，是制备超硬，耐磨，自润滑，高结合力的高质量膜层的有利帮手。设备采用可编程控制器(PLC)+触摸屏(HMI)组合方式，可实现全自动化控制。