PIS系列纯离子镀膜设备主要是集纯离子镀膜技术（PIC）、高能离子束清洗技术（IONBEAM）和磁控溅射技术（SPUTTER）三种技术融合于一体，其独有的纯离子镀膜源技术，利用高效的电磁过滤系统和电磁扫描系统有效过滤掉中性粒子、大颗粒离子团等杂质，大幅度提高等离子束流纯度，使膜层更加致密，硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性也更优异。可以镀制厚度范围从几百纳米到二十多微米的超级类金刚石Ta-C膜层。
应用领域和范围：
Ø 工业耗材制造、消费电子行业等；
Ø 汽车和柴油车发动机关键零部件；
Ø 纺织行业关键零部件；
Ø 高端切削刀具以及医疗器械行业；