氧化镁单晶在许多高技术领域的研究和生产中有着独特的优势，其中，大尺寸氧化镁单晶体以及以此为基础做成的高温超导基片及双面膜为参与国际高科技竟争的关键产品。氧化镁的熔点在2800°C以上，沸点为3600°C，所以要想得到大尺寸、高纯度的氧化镁单晶，对原料的选择和控制要求非常严格。氧化镁单晶基片是高频微波器件高温超导薄膜zui常选用的主要衬底材料之一，也是当前可实现产业化的重要的高温超导薄膜基片。
氧化镁一般情况下是白色粉末，但是氧化镁晶体，离子晶体，氧是典型的非金属，镁是典型的金属，所以形成的氧化镁是离子晶体。氧化镁（MgO）单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等，MgO晶体基片公司，也可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。由于氧化镁良好的电绝缘性和耐腐蚀性等功能特性，可以制成透明陶瓷、发光品体，催化剂等，同时它还是二种优良的薄膜生长基质材料。
随着科学技术的不断进步，MgO晶体，尤其是光电产业和无线通讯的发展，氧化镁(MgO)单晶的需要量越来越大，发展前景非常广阔。在各领域应用中，MgO晶体基片，氧化镁(MgO)单晶的尺寸一般要求在5X 5 X 5mm-100 X 100 XIOOmm之间，MgO晶体基片价格，甚至更大。氧化镁（MgO）是极1好的单晶基片而广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等，由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。
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